| Sources de dépôt | Arc cathodique orienté + cathode de pulvérisation de MF |
|---|---|
| Technique | PVD, équilibré/a déséquilibré la cathode de pulvérisation de Magentron |
| Applications | attaches en acier de précision, vis, métaux de caméra |
| Caractéristiques de film | résistance à l'usure, adhérence forte, couleurs décoratives de revêtement |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Technologie de vide | Électrodéposition multi cathodique d'arc, dépôt d'arc de PVD |
|---|---|
| Sources de dépôt | Sources cathodiques d'arc |
| Films de revêtement | Électrodéposition de film métallique, nitrure titanique, carbure titanique, nitrure de zirconium, ni |
| Applications industrielles | Métal, articles en céramique et en verre de maison, articles de table d'acier inoxydable, tôle d'aci |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Chambre | Orientation horizontale/verticale, 1 porte, |
|---|---|
| Matériau | Acier inoxydable 304/316 |
| Technologie de vide | Électrodéposition multi cathodique d'arc, dépôt d'arc de PVD |
| Sources de dépôt | Sources cathodiques d'arc |
| Films de revêtement | Électrodéposition de film métallique, nitrure titanique, carbure titanique, nitrure de zirconium, ni |
| Chambre | Orientation horizontale/verticale, 1 porte, |
|---|---|
| Matériau | Acier inoxydable 304/316 |
| Technologie de vide | Électrodéposition multi cathodique d'arc, dépôt d'arc de PVD |
| Sources de dépôt | Sources cathodiques d'arc |
| Films de revêtement | Électrodéposition de film métallique, nitrure titanique, carbure titanique, nitrure de zirconium, ni |
| Chambre | Orientation verticale, 1 porte |
|---|---|
| Technologie du vide | Métallisation sous vide PVD |
| Sources de dépôt | Filament de tungstène thermique |
| Applications industrielles | Métallisation plastique, ABS, PP, PE, PC, PMMA, Acrylique |
| Nom | Machine de métallisation sous vide |
| Chambre | Orientation horizontale/verticale, 1 porte, |
|---|---|
| Matériau | Acier inoxydable 304/316 |
| Technologie de vide | Électrodéposition multi cathodique d'arc, dépôt d'arc de PVD |
| Sources de dépôt | Sources cathodiques d'arc |
| Films de revêtement | Électrodéposition de film métallique, nitrure titanique, carbure titanique, nitrure de zirconium, ni |
| Technologie de vide | Magnétron de MF pulvérisant, nettoyage de plasma de source d'ions |
|---|---|
| Sources de dépôt | Cathodes de pulvérisation |
| Films de revêtement | Électrodéposition de film métallique, nitrure titanique, carbure titanique, nitrure de zirconium, ni |
| Applications industrielles | Module d'électronique, carte, revêtements durs, décorations de PVD |
| Chambre de dépôt | chambre de 8 côtés |
| Technologie | Dirigez le cuivre plaqué, système de pulvérisation de magnétron de PVD |
|---|---|
| Prénettoyage | Traitement préparatoire linéaire de plasma de source d'ions d'anode |
| Cathodes de pulvérisation | Ensembles de MF 4 ; Ensembles de dc 2 |
| Cibles de pulvérisation | Or d'Au, argent d'AG, cuivre, aluminium, ITO, Ti, Cr, acier inoxydable etc. |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Chambre | Orientation verticale, 2 portes |
|---|---|
| Sources de dépôt | Évaporation de filament de tungstène + dépôt de pulvérisation |
| Films de dépôt | Sn, dedans, évaporation thermique d'Al/Cr/Ag/Au + pulvérisation en acier de Ti/Cr/Ni/Stainless |
| Applications | L'IEM et les NCVM filment le revêtement, produits électroniques, outils à distance |
| Technologie | Vide de PVD metallzing, pulvérisant, évaporation thermique, nettoyage de plasma de source d'ions |
| Sources de dépôt | Arc cathodique orienté + cathode de pulvérisation de MF |
|---|---|
| Technique | PVD, équilibré/a déséquilibré la cathode de pulvérisation de Magentron |
| Applications | Al2O3, cartes en céramique d'AlN, plats Al2O3 sur LED, semi-conducteur |
| Caractéristiques de film | résistance à l'usure, adhérence forte, couleurs décoratives de revêtement |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
