| Sources de dépôt | MF/DC pulvérisant + cathodes d'arc |
|---|---|
| Films de dépôt | Revêtements durs, DLC, revêtement optique de film, revêtements décoratifs |
| Applications | PECVD traitent, le film de DLC, diamant comme le film de carbone, film optique de pulvérisation, |
| Caractéristiques de film | Corrosion élevée et résistance à l'usure réfléchies et excellentes |
| Couleurs de revêtement | Couleur noire et or de Rose, revêtement bleu de couleurs |
| Sources de dépôt | MF/DC pulvérisant + cathodes d'arc |
|---|---|
| Films de dépôt | DLC, revêtement optique de film, revêtements décoratifs |
| Applications | PECVD traitent, le film de DLC, diamant comme le film de carbone, film optique de pulvérisation, |
| Caractéristiques de film | Corrosion élevée et résistance à l'usure réfléchies et excellentes |
| Structure d'équipement | structure de porte d'avant et de dos 2 |
| Source d'évaporation | Creuset de cuivre |
|---|---|
| Matériaux de dépôt | Poudre de carbone, C60 |
| Applications | semi-conducteurs, capteurs, piles à combustible, et revêtements optiques. |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Sources de dépôt | Arc cathodique orienté + cathode de pulvérisation de MF |
|---|---|
| Technique | PVD, équilibré/a déséquilibré la cathode de pulvérisation de Magentron |
| Applications | Al2O3, cartes en céramique d'AlN, plats Al2O3 sur LED, semi-conducteur |
| Caractéristiques de film | résistance à l'usure, adhérence forte, couleurs décoratives de revêtement |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Sources de dépôt | Arc cathodique orienté + cathode de pulvérisation de MF |
|---|---|
| Technique | PVD, équilibré/a déséquilibré la cathode de pulvérisation de Magentron |
| Applications | attaches en acier de précision, vis, métaux de caméra |
| Caractéristiques de film | résistance à l'usure, adhérence forte, couleurs décoratives de revêtement |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Technologie de vide | Électrodéposition multi cathodique d'arc, dépôt d'arc de PVD, magnétron pulvérisant par C.C |
|---|---|
| Sources de dépôt | L'arc de cylindre ou les cathodes circulaires d'arc, C.C pulvérisent la source |
| Films de revêtement | Électrodéposition de film métallique, nitrure titanique, carbure titanique, nitrure de zirconium, ni |
| Applications | tuyauterie et plumbings de arrosage ; garnitures de salle de bains et valves de robinets, |
| Caractéristiques | Flexibilité, polyvalence, conception simple |
| Modèle de pulvérisation | Non équilibré/équilibré avec C.C, MF, rf |
|---|---|
| Sources de pulvérisation | Planaire pulvérisez ou le cylindre pulvérisent |
| Cibles de pulvérisation | Chrome, cuivre, aluminium, nickel, argent, or, acier inoxydable |
| Applications | Dépôt de pulvérisation de jantes de roue de voiture, de miroirs de voiture, d'argent et d'or, instru |
| Emplacement d'usine | Ville de Changhaï, Chine |
| Chambre | Orientation verticale, 1 porte |
|---|---|
| Matériau | Acier inoxydable 304/316 |
| Caractéristiques de film | Corrosion élevée et résistance à l'usure réfléchies et excellentes |
| Technologie | Métallisation sous vide de pulvérisation de magnétron |
| Nom | Vide métallisant la machine |
| Chambre | Orientation verticale, porte 2, |
|---|---|
| Matériel | Acier inoxydable 304/316 |
| Technologie de vide | électrodéposition de pvd, magnétron de pvd pulvérisant, pulvérisation de C.C |
| Sources de dépôt | Cathodes de pulvérisation de C.C |
| Films de revêtement | Électrodéposition de film métallique, nitrure titanique, carbure titanique, nitrure de zirconium, ni |
| Chambre | Orientation horizontale, |
|---|---|
| Matériel | Acier inoxydable 304/316 |
| Technologie | Pulvérisation, évaporation, traitement plasma |
| Application du projet | Papier électronique, film ITO, circuits flexibles, photovoltaïque, bandes médicales et RFID. |
| Fonctionnement et contrôle | PLC intuitif et contrôle IPC. |
